本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。
本标准适用于萤石硫酸法六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注人工艺外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。
分子式:SiF4.
相对分子质量: 104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。
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GB/T 31058-2014 pdf下载 电子工业用气体 四氟化硅
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